MI-4050

仕様

一般名：　集束イオンビーム装置　Focused Ion Beam

メーカー名：　株式会社日立ハイテク　Hitachi High-Tech Co.

型番：　MI-4050

装置概要：　走査イオン顕微鏡機能、およびビーム照射によるスパッタエッチング機能により、試料上任意の場所の微小断面加工?観察を行うことができます。また、オプションのガス銃により、FIB照射によって加工を行うことができます。

装置構成：

　加速電圧　1.0 ～ 30 kV、

　分解能　4 nm＠30 kV

　最大ビーム電流　90 nA以上

　最大ビーム電流密度　50 A/cm2

　検出器　二次電子検出器

　試料ステージ　5軸電動ユーセントリックステージ

　試料サイズ　50（W）×50（D）×12（H） mm